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第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨紐迪瑞科技董事長李灝
展覽會議

第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨紐迪瑞科技董事長李灝

摘要:中國國際顯示大會(CIDC)為顯示產業提供一個全球性、專業化信息發布平臺,剖析全球顯示產業的轉移趨勢和發展方向,深度揭示中國在顯示產業鏈相關領域的承接機遇與挑戰,探討中國顯示產業集群式發展的技術基

閱讀:6032017年11月14日 17:22:29
華為、OPPO等大批廠商紛紛加入雙屏折疊手機研發 全面屏過時了?
行業新聞

華為、OPPO等大批廠商紛紛加入雙屏折疊手機研發 全面屏過時了?

摘要:據行業消息人士披露,折疊手機將是全球手機行業的下一個新潮流。據臺灣電子時報網站日前引述行業消息人士報道,包括中國、韓國在內的大批手機廠商,目前正在開發折疊手機,其中包括了華為、OPPO以及韓國的三星電子、LG電子等 2017年,以提高屏占比為核心的全

閱讀:7922017年11月14日 10:42:16
占據面板成本1/4的關鍵組件!CF制程、檢測及工藝流程圖匯總
技術中心

占據面板成本1/4的關鍵組件!CF制程、檢測及工藝流程圖匯總

摘要:Color Filter(彩色濾光片)是組成面板中最重要的關鍵零組件,占面板制造總成本約四分之一,制造生產方式是在素玻璃基板上用紅、綠、藍色的光阻液原料,用黃光蝕刻方式或是其它技術(如顏料分散或轉印方法)形成與紅、綠、藍三原色的長條形數組的基板。 當背面的

閱讀:110942017年11月14日 08:51:43
智領新時代 慧享新生活 —— CITE2018新聞發布會在北京召開
展覽會議

智領新時代 慧享新生活 —— CITE2018新聞發布會在北京召開

摘要:2017年11月13日下午,工業和信息化部與深圳市人民政府在北京召開新聞發布會,決定于2018年4月9日至11日在深圳會展中心共同舉辦第六屆中國電子信息博覽會(CITE 2018),這也是電子信息行業學習貫徹十九大精神的一次重要行業活動。 工業和信息化部電子信息司司

閱讀:11142017年11月13日 17:24:03
錯過了雙十一購物狂歡?別錯過高交會顯示狂歡節
展覽會議

錯過了雙十一購物狂歡?別錯過高交會顯示狂歡節

摘要:錯過了雙十一購物狂歡節?沒關系,11月16至21日高交會光電顯示展全民顯示狂歡節等你來! 高交會光電顯示展作為高交會重要組成部分,自2004年在深圳會展中心成功舉辦首屆以來,便已成為了光電顯示行業公認的國內行業規模最大、影響力最強、水平最高的盛會。20

閱讀:8012017年11月13日 16:08:50
第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨哲力知識產權集團深圳公司常務副總經理齊則琳
展覽會議

第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨哲力知識產權集團深圳公司常務副總經理齊則琳

摘要:中國國際顯示大會(CIDC)為顯示產業提供一個全球性、專業化信息發布平臺,剖析全球顯示產業的轉移趨勢和發展方向,深度揭示中國在顯示產業鏈相關領域的承接機遇與挑戰,探討中國顯示產業集群式發展的技術基

閱讀:12882017年11月13日 15:59:01
第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨晶科電子背光事業部副總監謝超英
展覽會議

第十三屆中國國際顯示大會演講嘉賓丨晶科電子背光事業部副總監謝超英

摘要:中國國際顯示大會(CIDC)為顯示產業提供一個全球性、專業化信息發布平臺,剖析全球顯示產業的轉移趨勢和發展方向,深度揭示中國在顯示產業鏈相關領域的承接機遇與挑戰,探討中國顯示產業集群式發展的技術基

閱讀:16962017年11月13日 15:50:37
傳蘋果將在2018年推出兩款OLED屏幕iPhone GIS
行業新聞

傳蘋果將在2018年推出兩款OLED屏幕iPhone GIS

摘要:外電報導,2018年將有三款iPhone,包括5.85寸與6.46寸的OLED版iPhone,以及6.05寸的LCD版iPhone。可以看出,OLED版iPhone在2018年還會再增加一款,使得出貨量將持續提升。 2018年的iPhone將有兩款采用主動有機發光二極體(AM OLED)屏幕,不僅會帶動GIS業成

閱讀:8982017年11月13日 10:26:13
鴻海集團與美威斯康辛州政府簽約  將推8K+5G生態系統
行業新聞

鴻海集團與美威斯康辛州政府簽約 將推8K+5G生態系統

摘要:鴻海集團昨(12)日發布最新聲明強調,將在當地推動8K+5G生態系統,該園區面積達1000英畝,將結合當地技術、勞動、資本密集優勢。 鴻海集團在美國時間11日(臺北時間12日)與美國威斯康辛州政府簽約,在鴻海集團董事長郭臺銘率隊之下,正式敲定四年內當地100

閱讀:8602017年11月13日 10:06:43
「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析
技術中心

「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析

摘要:Dry Etch工序的目的 廣義而言,所謂的刻蝕技術,是將顯影后所產生的光阻圖案真實地轉印到光阻下的材質上,形成由光刻技術定義的圖形。 它包含了將材質整面均勻移除及圖案選擇性部分去除,可分為濕式刻蝕(wet etching)和干式刻蝕(dry etching)兩種技術。 濕式

閱讀:380162017年11月12日 14:24:00

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