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方案論文

單層電容式觸控設計要點

摘要：各式各樣的降低成本的方法被提出，有使用塑料或壓克力來取代玻璃，或使用薄膜取代玻璃，將原本雙層的結(jié)構(gòu)硬擠在單層結(jié)構(gòu)里面等方法，到最后形成將Sensor做在保護玻璃上(Touch on Lens) 與做在LCD里面（In-Cell）的兩種終級方法的對決。近年來在行動裝置掀起

閱讀：24482011年12月23日 10:37:55

方案論文

LED電視機直接背光解決方案

摘要：Atmel公司MSL4163/MSL4164是電視機直接背光LED驅(qū)動器。MSL4164具有20MHz SPI總線，每串LED的電流為100mA，電流精度和匹配度優(yōu)于3%，可驅(qū)動16x10個白光LED，16個器件級聯(lián)可驅(qū)動高達2560個白光LED。MSL4163提供1MHz I2C串口，器件包括先進的PWM引擎以及片上EEP

閱讀：21422011年12月23日 10:37:57

方案論文

解析等離子屏拼接顯示墻技術(shù)原理

摘要：在了解等離子顯示原理之前，我們先得了解一下---Plasma/等離子體，當惰性氣體達到一定溫度，氣體內(nèi)部電子充分電離，當正離子(+)、自由電子(-)數(shù)量基本相當，加上少量不帶電的中性粒子，該氣體即稱為等離子體。等離子體具有良好的導電性。等離子原理簡析等

閱讀：27012011年12月23日 10:37:58

方案論文

待起飛的微投影產(chǎn)業(yè)概況分析

摘要：2011年年初的美國消費性電子CES大展中，同樣展出多項微投影（Micro Projector）的內(nèi)嵌式產(chǎn)品，相較于往年的微投影產(chǎn)品展示，今年在于內(nèi)嵌電子裝置的產(chǎn)品較為熱絡，尤其在智能型手機（Smartphone）以及數(shù)碼相機（DSC）上，包含將微投影內(nèi)嵌于數(shù)碼相機的GE、以

閱讀：21752011年12月23日 10:37:59

方案論文

液晶拼接屏技術(shù)在閉路系統(tǒng)的應用

摘要：隨著液晶顯示技術(shù)、嵌入式硬件拼接技術(shù)、多屏圖像處理技術(shù)、信號切換技術(shù)等電視幕墻相關(guān)技術(shù)的發(fā)展，新型拼接幕墻在工程應用的終端大屏幕顯示設備中得到迅速普及，特別是嵌入式液晶拼接幕墻，雖推出市場的時間不長，但受到了廣泛歡迎。液晶拼接幕墻作為平安

閱讀：21472011年12月23日 10:38:01

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LED顯示屏動態(tài)掃描與靜態(tài)掃描區(qū)別

摘要：驅(qū)動IC的輸出腳到像素點之間實行點對點的控制叫做靜態(tài)驅(qū)動，從驅(qū)動IC輸出腳到像素點之間實行點對列的控制叫做掃描驅(qū)動，他需要行控制電路，從驅(qū)動板上可以很清楚的看出：靜態(tài)驅(qū)動不需要行控制電路，成本教高、但顯示效果好、穩(wěn)定性好、亮度損失教小等；掃描

閱讀：24962011年12月23日 10:38:02

方案論文

LED顯示屏單元板上控制信號分布

摘要：圖1 單元板背面圖單元板芯片分析說明 1、圖中紅色為HC245芯片，起到信號放大的作用。其中芯片1放大單元板上半部分的信號，即第一組RGB數(shù)據(jù)和第二組RGB數(shù)據(jù)。芯片2放大單元板下半部分的信號，即第三組RGB數(shù)據(jù)和第四組RGB數(shù)據(jù)。芯片3放大ABCD行信號，CLK信號

閱讀：20262011年12月23日 10:38:02

方案論文

田口法探討OLED設備ITO表面誘發(fā)變異

摘要：1.前言當OLED漸漸在電子產(chǎn)品上大量生產(chǎn)，OLED的制造已吸引許多科學家去制定最適宜的處理條件，ITO已廣泛在OLED上當作正極使用，而且不同表面誘發(fā)變異以被報導出來為了要改進設備性能，這些表面處理包括氧離子、紫外線-臭氧、氧炙熱發(fā)電、化學藥品、酸和基層

閱讀：18832011年12月23日 10:38:04

方案論文

ATMEGA32實現(xiàn)單色OLED顯示灰度圖像

摘要：單色顯示器一般來說是不能顯示灰度圖像的。這里通過將一幅灰度圖像按照點的灰度不同，分解為多張單色圖像，然后對這多張單色圖像以較高的顯示速度依次顯示在顯示器件，就等于給每一個點進行PWM，從而可以達到顯示灰度圖像的目的。顯示速度影響了最終的效果。

閱讀：23122011年12月23日 10:38:04

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SSD1332 OLED點亮細節(jié)LCM產(chǎn)品設計

摘要：一、OLED 的顯示二、OLED 相關(guān)關(guān)鍵工藝氧化銦錫(ITO)基板前處 (1)ITO 表面平整 ITO 目前已廣泛應用在商業(yè)化的顯示器面板制造，其具有高透射、低電阻及高功函數(shù)等優(yōu)點。一般而言，用射頻濺鍍法(RF sputtering)所制造的ITO，受工藝控制因素而導致表面平整，

閱讀：22702011年12月23日 10:38:05