Intel這批老馬走的有些遲緩，臺積電和三星電子卻在新工藝上大發(fā)神威。三星此前已經(jīng)集中披露了8/7/6/5/4nm的長遠(yuǎn)規(guī)劃，臺積電也在7/5/3nm上持續(xù)投入。
臺積電計(jì)劃2018年就量產(chǎn)7nm工藝，2019年再投產(chǎn)改進(jìn)版本，首次使用EUV極紫外光刻技術(shù)。——三星也會在7nm上首次應(yīng)用EUV。
5nm將在2019年第一季度投入風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)，量產(chǎn)時(shí)間未定，估計(jì)也就在2019年年內(nèi)。
臺積電表示，5nm會在臺灣南部科技園(STSP)的工廠里投產(chǎn)，但后續(xù)產(chǎn)能擴(kuò)充仍要視環(huán)境評估而定。
3nm工藝上臺積電已經(jīng)投入了數(shù)百名工程師，但產(chǎn)地一直懸而未決。臺積電曾經(jīng)有意將新工廠轉(zhuǎn)移到美國，不過首選還是臺灣本土。
臺積電表示，其在臺灣北部、中部、南部都有工廠，可以大大降低成本、提高生產(chǎn)效率，但充裕的供電和供水也是至關(guān)重要的。
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