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ASML明年將生產10臺2nm設備 英特爾已搶下6臺

編輯:chinafpd 2023-12-20 10:52:16 瀏覽:1140  來源:

  近日有消息稱,ASML將于未來幾個月內推出2nm制程節點制造設備,并計劃在2024年生產10臺2nm設備,英特爾已采購其中6臺。新一代的高數值孔徑 (High-NA) EUV光刻機可以將聚光能力從0.33提高至0.55,能夠獲得更精細的曝光圖案,用于2nm制程節點。未來幾年,ASML希望將這種最新設備的產能提高至每年20臺。

  此前,英特爾表示已開始在其位于愛爾蘭價值185億美元的工廠采用EUV光刻機進行大量生產。愛爾蘭廠是英特爾首次嘗試使用EUV 技術進行大量制造。英特爾希望憑借其制造技術重新奪回領先地位。

  自2017年ASML的第一臺量產的EUV光刻機正式推出以來,三星的7nm、5nm、3nm工藝,臺積電的第二代7nm、5nm、3nm工藝的量產都是依賴于0.33 數值孔徑的EUV光刻機來進行生產。目前,隨著三星、臺積電、英特爾3nm制程的相繼量產,目前這三大先進制程制造廠商都在積極投資2nm制程的研發,以滿足未來高性能計算等先進芯片需求,并在晶圓代工市場的競爭當中取得優勢。而2nm工藝的實現則可能需要依賴于ASMLHigh-NA EUV光刻機。

  目前ASML正在開發的0.55 NA的High-NA EUV光刻機,分辨率為 8nm,能夠幫助芯片制造商生產2nm及以下更先進制程的芯片,并且圖形曝光的成本更低、生產效率更高。據研究機構KeyBanc此前表示,一臺0.55 NA EUV光刻系統的成本預計為3.186億美元,而正在出貨的0.33 NA EUV光刻系統則為1.534億美元。

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