為期三天的Finetech Japan 2011，除了原有的顯示器相關、高功能膜片、光通訊專門技術研討會以外，也同時舉辦了高功能膜片、納米壓印、印刷電子與新興激光加工的特別研討會。由研討會的內容安排，可以看見日本相關產業鏈的密切分工與協作。在針對印刷電路技術的特別演講中，主要介紹的不是一般的印刷電路技術，而是以新制程與材料技術所引領的Fine Pitch Patterning技術，隨著超薄、軟性電子與綠色環保的需求日殷，功能由單純的電路轉換成主動控制回路，再搭配上OLED或是電子紙技術，材料也由一般常見的PI或金屬軟板，擴展成新開發的光學級耐熱透明基板素材，連續式精細噴墨、蒸鍍與＜1μm的超精密涂布技術來完成新一代的功能性產品。
山形大學的城戶淳二教授在新一代印刷電路技術演講會中說明有關OLED技術的制程與未來發展。城戶教授指出，目前的發展方向在中小型的EL需要實現塑料基板的連續式涂布技術發展，RGBY EL多層組件利用噴涂的方式在表面處理后的光學薄膜上進行加工，大型化的OLED面板則是在2015-2020年之后才會有相對應商業化的技術出現。目前OLED也致力于照明的用途開發，只不過壽命會因為需要高亮度的關系而大幅衰減。另外，由城戶教授所領導的RIOE（Research Institute for Organic Electronics）目前已經完成單片最大30x30cm的OLED發光面板，并在日本國內結合許多創意設計，描繪出以OLED為照明的相關產品特色。
目前大日本印刷正投入七億日元進行涂布相關制程開發，而印刷或是噴墨法所需要的各種納米金屬墨水，或是有機透明導電材料也相繼發表，以符合此制程與電性的需求。
在高功能薄膜的基調演講會中，三菱樹脂針對環境、能源、電子等三大應用領域，提出五個戰略方向，分別是鋰離子電池用隔離膜的高容量、高輸出等多功能化；FPD光學膜(光學用透明黏著片、反射膜)的開發；太陽電池材料展開以Barrier Film技術為核心的材料事業，如Back Sheet、Front Sheet、封止材等。另外還有有機光半導體超High Barrier Film的開發，與 LED導光式背光板所需要的高反射率光學膜與新一代取代EVA的PE類Procellier 封止膜的開發等。
另外，三井公司對于高附加價值的功能膜片也描繪出發展輪廓，將以三井特有的Polyolefin材料搭配各種加工技術，應用在能源、IT醫療生活與包裝上。帝人也以聚碳酸樹脂等核心材料技術進行多樣化的產品開發。
納米壓印的技術演講會則邀請到北海道大學的西井準治教授進行玻璃光學納米壓印技術的報告。玻璃材料在納米加工上，比一般塑料塑化或光硬化制程更為困難，不過在折射率與特用光學組件上有其必要性，在一般的曲面鏡表面上制作納米抗反射結構層，可以大幅改善一些鏡頭相差與干射的問題，可以直接使用在目前所有的鏡頭光學組件上。兵庫縣立大學的松井真二教授進行常溫納米壓印研究的演講，特殊的彈性HSQ材料可以成形意想不到的3D杯狀納米結構，顛覆一般微結構的作法。日本板硝子也利用納米壓印技術制作表面直接抗反射納米結構玻璃，降低因為玻璃反射光所產生的視覺影響。同樣在玻璃光學組件上具有重要的光學效果，同時也可以讓消費購物的櫥窗看得更清楚。同樣產品也會應用在顯示器的前板中，以減少抗反射材料的使用。納米壓印技術，特別是娥眼納米結構(200-300nm)抗反射技術已經開始大量的實現在相關的技術產品中。
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