在 LCD 制程中，從初期入料洗凈、成膜前洗凈、光阻前洗凈、配向洗凈到完工洗凈，至少需要 20 次以上的洗凈工程，也需要各種洗凈設備，目的是要將玻璃基板上的雜質以清洗劑洗凈，由于這些洗凈工程對于后續制程良率影響極大，因此 LCD 洗凈設備在制程所扮演的角色也就顯得格外重要，未來發展情況愈來愈受重視。 臺灣工研院經資中心產業分析師黃仲龍表示，洗凈設備分為兩種；一種是以卡匣為單位，將數個基板一起浸泡在洗凈槽中進行洗凈處理的「群組式設備」，以及將基板分片搬送，再用清洗液沖洗基板正反面來進行洗凈工程的「單片式設備」。 在 LCD 玻璃基板的制程中有很多采用群組式洗凈設備，主要是因為以卡匣為單位處理基板，生產量高，但因基板尺寸變大，設備的高度也會變高，加上清洗液循環使用以及卡匣和基板一起洗凈的影響，會產生無法完全洗凈等問題，因此群組式洗凈設備在 TFT 制程上的應用有所限制。 單片式洗凈設備雖然也會隨著基板面積擴大而變大，但設備高度影響卻比較少。而且單片式洗凈設備可以做到群組式洗凈設備較難做到的單片基板洗凈，以及可依清洗液不同進行深度洗凈，所以成為 LCD 洗凈設備的主流。 黃仲龍指出，針對 LCD 玻璃基板大型化與低價化等要求，進一步的降低價格、節省空間、提升產量及提升維修性等為洗凈設備的新課題。而且依洗凈制程不同，最適當的單片式洗凈設備的種類也有所不同，因此，未來需要開發各種洗凈設備。 目前已開發完成可洗凈 1 公尺平方基板的水平單片式洗凈設備，但客戶仍要求減少藥液使用量和提高洗凈工具的處理效率等問題，因此未來工具開發與洗凈設備效率的提升，都是相關設備研發改善的重要課題。 此外，可洗凈到 3.5 代基板尺寸的旋轉單片式設備已開發完成，但是未來將面對的是1公尺平方玻璃基板的低溫多晶硅TFT制程，業者則期待能有可用在大型基板與LTPS制程的高度洗凈設備。因此，除了刷毛類的物理洗凈工具與背面處理工具外，新的旋轉式洗凈設備與工具的開發動作也相當受關注。 (
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